Orbit

年度 1989
全部作者 林明璋
論文名稱 Rotational Temperature of SiF2 Radical Produced in the Thermal Etching of Silicon by Fluorine Containing Compounds
期刊名稱 AIP Conf. Proc. No. 191, Opt. Sci. Eng. Ser. 10, Adv. Laser Sci. IV, p. 445, Am. Inst. Phys.
語言 中文