Orbit

年度 2019
全部作者 林明璋
論文名稱 Ab Initio Chemical Kinetics for the Thermal Decomposition of SiH2+ and SiH3+ Ions and Related Reverse Ion–Molecule Reactions of Interest to PECVD of α-Si:H Films
期刊名稱 Plasma Chemistry and Plasma Processing, 39, 1559–1573
發表日期 2019-07-24
語言 中文